Accelrys Materials Studio Modeling V3.1.0.0 材料模擬計算 英文版

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Accelrys Materials Studio Modeling V3.1.0.0 材料模擬計算 英文版 
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HoneRiSO Apps 
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軟體名稱: Accelrys Materials Studio Modeling V3.1.0.0 
語系版本: 英文版 
光碟片數: 單片裝 
保護種類: FlexLM 伺服授權 
破解說明: 見最底下 
系統支援: Windows 2000/XP 
硬體需求: http://www.accelrys.com/mstudio/sys_reqs.html 
軟體類型: 材料模擬計算 
更新日期: 2004.11.30 
軟體發行: Accelrys(S.iNiSTER) 
官方網站: http://www.accelrys.com/mstudio 
中文網站: 無 
軟體簡介: (以官方網站為準) 
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Accelrys Materials Studio 專門為材料科學模擬所設計，能方便的建立 3D 分子 
模型，深入分析有機、無機晶體、無定形材料以及聚合物，可以在催化劑、聚合物 
、固體化學、結晶學、晶粉衍射以及材料特性等材料科學研究領域進行性質預測、 
聚合物模型建製和 X 光衍射模擬，操作靈活方便，並且最大限度地運用網路資源 
 
功能 
DISCOVER 
分子力學和動力學程式。基於力場計算出最低能量構型、分子體系的結構和動力學 
軌跡等 
 
COMPASS 
對凝聚態材料進行原子水平模擬的力場。可以在很大的溫度、壓力範圍內精確地預 
測孤立體系或凝聚態體系中各種分子的結構、構象、振動以及熱物理性質。 
 
Reflex 
模擬晶體材料的 X 光、中子以及電子等多種粉末衍射圖譜 
 
DMol3 
密度泛函程式，可用於研究均相催化、多相催化、分子反應性、分子結構等，也可 
預測溶解度、蒸氣壓、配分函數、溶解熱、混合熱等性質 
 
CASTEP 
量子力學程式，應用於陶瓷、半導體、金屬等多種材料，可研究晶體材料的性質、 
表面和表面重構的性質、表面化學、電子結構【能帶及態密度】、晶體的光學性質 
、點缺陷性質【如空位、間隙或取代摻雜】、延展缺陷【晶粒間界、位錯】、體系 
的 3D 電荷密度及波函數等。 
 
VAMP 
半經驗的分子軌道程式，適用於有機和無機的分子體系 
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站長安裝測試環境與安裝說明: 
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‧測試環境 Windows XP Service Pack 1 繁體中文專業版、P4-2.0G 中央處理器、 
  256Mb 記憶體、NTFS 格式 80.0Gb 硬碟。 
 
‧請詳閱光碟底下中文說明.jpg(install.en.txt)完整中、英文安裝破解說明檔 
 
‧附一張安裝完成、破解成功 HoneRiSO.jpg 擷圖，保證裝的起來 
 

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